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晶圆PVD工艺设备
半PVD薄膜设备是公司在半导体领域的第二台量产设备,接受特定客户定制,为国内少数具备蒸发、溅射全生产线生产能力的专业厂家,是未来AMAT、Evatec、Ulvac等企业产品强有力的竞争对手。¥ 0.00现在购买
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超越系列精密光学镀膜机
该设备以成都光学镀膜机研发的产业链为基础,在核心部件、控制系统、结构设计等方面吸取世界一流产品的技术精华,开发出一系列超越型产品。本设备适用于高精度光通信产品的镀膜: 电膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分束膜、AR膜、各种滤光片、玻璃片和塑料 (树脂) 零件、¥ 0.00现在购买
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研究热蒸发/磁控溅射
主要功能: 多靶复合磁控溅射镀膜机可满足合金膜,单层膜,多层膜,导电膜,非导电膜和反应溅射的需求。它具有极高的实用性和通用性 (三靶、垂直和共溅射、基板在线清洗等),可提供高水平的功能膜开发,特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、t¥ 0.00现在购买
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研究-PECVD沉积
本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃、硅、石英等金属衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅等功能薄膜,制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件,并且还可用于在工件上制备超硬薄膜。广泛应用于高校、科研院所和企业¥ 0.00现在购买
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超过工业级电阻电子束蒸发
本设备适用于高精度光通信产品,如光学膜、电膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分束膜、抗反射膜、各种滤光片、玻璃片和塑料 (树脂) 零件,如抗反射膜和截止膜。为了满足广大用户的不同需求,我公司可以接受各种形式的真空镀膜机定制要求,包括真空室的尺寸,v¥ 0.00现在购买
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研究-热蒸发真空镀膜
本设备可配备电阻、电子束或电阻电子束复合涂层系统。过流元件全部采用SUS304,真空系统后置,配备标准配置分子泵系统,配备标准工业人机界面和西门子PLC系统,手动和自动模式自由切换,可以满足工业客户小批量生产和科学研究的需求¥ 0.00现在购买