设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。
      真空腔体：φ900X1050，双层水冷；（可根据实际需求定制）
      真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空系统；
      真空抽速：4000-7000L/S，进口全量程复合真空计，全金属防爆真空规；
      极限真空：6.7X10^-5Pa；（根据客户选择主泵确定）
      磁控靶组件：4个矩形靶，4个圆柱靶，根据客户实际需要匹配中频、射频、脉冲直流溅射电源；
      离子源：2套线性离子源，匹配专用电源；
      气路：4路反应气体，进口质量流量计，1路毛细保护气路；
      烘烤温度：400℃，不锈钢铠装加热器，可拆卸快装结构；
      工件盘：导轨多工位行星工件盘2套（标准配置为12工位和24工位，可扩展数百件工件共同沉积），工件盘装夹移动小车一辆；
      控制系统：西门子PLC+西门子人机界面+工业控制计算机。
      特别说明：该设备为公司与中科院某所合作研制，获得国家科技进步、国家科技发明奖、机械工业科技进步一等奖和中科院重大设备专项等国家级奖励，公司提供一揽子技术解决方案，同时与合作伙伴共享知识产权。