1. 主体。

全封闭框架结构，真空室为前开门方式，机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（SUS304）,箱体尺寸为：不小于φ350X400mm。设置DN100观察窗口，位于真空腔体门正前方，骨架默认白色（或铝合金本色），门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报警锁定安全装置，能够防止停水后出现安全隐患。

2. 真空系统。

2.1极限真空度。≤6.63×10^－4Pa（空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气）。

2.2真空配置。高速直联旋片泵一台，抽速大于6L/S，超高分子泵一台，抽速600L/s。

2.3真空测量。两路电阻规，一路电离规；对真空室和真空管道分别精确监控，带数据通讯。

3. 工件架系统。单工位4英寸工件盘，工件盘可加热至500摄氏度，工件架真空室底部安装，便于更换基片，转速3～30rpm。

4. 照明装置。 照明装置1套。

5. 磁控溅射系统。配置2-3个Φ50mm磁控靶，安装于真空室顶部，向下溅射成膜；

6．充气系统。二路分别配置质量流量控制器，分别为0-100SCCM 1只，0-200SCCM1只，准确度±1% F.S，线性±0.5 % F.S，重复精度±0.2% F.S.

7．循环冷却水路。配置冷水机组与空压机。