RIE等离子刻蚀

反应离子刻蚀（RIE）是一种制造微纳米结构的等离子刻蚀技术。在刻蚀过程中，低压等离子体产生了高能离子和自由基，与样品表面反应，产生挥发性的化合物。这些挥发性化合物从样品表面抽走后，样品表面就实现了同向性或异向性的形貌。许多材料都能使用RIE刻蚀，并通过优化刻蚀参数（腔体压力、射频功率、气体流量比等）获得更好效果。