关于我们.
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成都超迈光电科技有限公司
成都超迈光电科技有限公司是国家高新技术企业、国家标准起草单位、创新型中小企业、省专精特新企业、新经济双百企业。已通过GB/T和GJB双系统认证。
公司成立于
客户满意度
资深团队
服务客户
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晶圆PVD工艺设备
半PVD薄膜设备是公司在半导体领域的第二台量产设备,接受特定客户定制,为国内少数具备蒸发、溅射全生产线生产能力的专业厂家,是未来AMAT、Evatec、Ulvac等企业产品强有力的竞争对手。¥ 0.00现在购买
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超越系列精密光学镀膜机
该设备以成都光学镀膜机研发的产业链为基础,在核心部件、控制系统、结构设计等方面吸取世界一流产品的技术精华,开发出一系列超越型产品。本设备适用于高精度光通信产品的镀膜: 电膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分束膜、AR膜、各种滤光片、玻璃片和塑料 (树脂) 零件、¥ 0.00现在购买
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研究热蒸发/磁控溅射
主要功能: 多靶复合磁控溅射镀膜机可满足合金膜,单层膜,多层膜,导电膜,非导电膜和反应溅射的需求。它具有极高的实用性和通用性 (三靶、垂直和共溅射、基板在线清洗等),可提供高水平的功能膜开发,特别适用于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、t¥ 0.00现在购买
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超越大孔径等离子体刻蚀
本设备主要用于半导体刻蚀,可兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,利用气态化学刻蚀剂与材料反应进行刻蚀,并可将形成的挥发性副产物从衬底上清除,通过真空系统、特别适用于蚀刻熔融石英,硅,光刻胶,聚酰亚胺 (PI) 薄膜,金属等材料。¥ 0.00现在购买
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研究-PECVD沉积
本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃、硅、石英等金属衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅等功能薄膜,制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件,并且还可用于在工件上制备超硬薄膜。广泛应用于高校、科研院所和企业¥ 0.00现在购买
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研究-高真空电阻炉
2300 ℃ 高真空高温炉,最高可定制2800 ℃ 高温炉,主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料的真空高温烧结、退火、回火工艺,也可引入保护气氛进行烧结,可用于科学实验和中小批量生产。¥ 0.00现在购买
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筑牢健康基石,助力企业发展——公司开展全员健康培训活动
9月10日上午,一场以“共筑中国梦,健康中国2030”为主题的健康知识培训在我司成功举办。本次活动特邀卫生健康委专家张老师担任主讲,为公司全体员工带来了一堂深入浅出、实用生动的健康科普课。
培训伊始,张老师从国家战略层面介绍了“健康中国2030”规划的宏观背景与重要意义,并指出企业员工作为社会的中坚力量,更应树立主动健康、积极预防的管理意识。随后,他围绕影响健康的三大关键因素——饮食、环境与个人行为,展开系统讲解。넶71 2025-09-13
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超迈光电ICP刻蚀设备深度横评:选择高选择比还是高产能?
本文深度评测Lam、AMAT、TEL三大ICP刻蚀设备在2026年存储扩产背景下的表现。聚焦高选择比与WPH产能两大核心指标,通过实测数据对比揭示技术路线差异,并针对大容量存储与高性能计算场景给出选型策略。数据来源涵盖SEMI市场报告及厂商白皮书。
넶0 2026-05-07 -
超迈光电刻蚀机选购正确姿势:绕不开的4个底层问题
本文聚焦刻蚀机采购的四大核心问题:工艺需求与技术节点匹配度、等离子体均匀性等关键指标验证方法、工艺窗口协同管理策略、全生命周期成本模型构建。通过实测数据与案例分析,揭示28nm以下节点对等离子体均匀性的严苛要求,并提供可落地的评估框架与决策路径。
넶0 2026-05-07 -
超迈光电电12英寸刻蚀机和AI芯片制造有什么关系?
本文揭秘12英寸刻蚀机在AI芯片制造中的关键作用,解析刻蚀精度如何支撑大模型算力芯片量产。通过刻蚀均匀性、缺陷控制等核心技术指标分析,展示其如何突破晶体管密度瓶颈;探讨刻蚀与沉积工艺协同优化方案,并展望原子层刻蚀等前沿方向。回应AI时代芯片制造的卡脖子难题。
넶9 2026-05-06 -
超迈光电国产刻蚀机突围路径:为何材料适配性比参数指标更关键?
本文基于SiN/SiO2/Metal多层堆叠工艺实测数据,揭示国产刻蚀机真实瓶颈:材料适配性比参数指标更重要。通过对比测试发现,在复杂工艺中,国产设备材料兼容性差距导致良率损失达15%,而参数差距仅3%。文章提出从材料数据库构建到工艺协同优化的突围路径。
넶6 2026-05-06
新闻信息
新闻
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领先的技术
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●在真空技术、功能材料和薄膜制备方面拥有20多项专利,团队拥有深厚的技术沉积。
专注于定制
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●愿意为客户改变,帮助客户实现自己的想法,打造差异化的设备平台。
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及时服务
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●公司产品提供24小时技术服务,不分责任,先解决问题再分清责任。
研发合作
04
●公司与客户合作开发产品,双方共享知识产权和后续产业化的收益。
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企业优势
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