• 离子束：高达5KV/10mA
• 离子电流密度100-360uA/cm2
• 离子束直径：4",5",6"
• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
• 极限真空5x10-5Pa
• 80l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
• 12"不锈钢筒装腔体，上翻盖机构
• 水冷旋转/倾斜样品台

产品应用：表面处理、离子铣、等离子表面清洗、带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀。