该生长炉可以生长Si、Ge、Cr、LiTaO3、BGO、Nd:YAG、YVO4、LYSO、蓝宝石等人工晶体。

该设备吸收德国某公司技术开发，采用中频感应加热方式，在真空条件下通过物理气相传输法生长优质光学晶体，能够生长碳化硅等第三代半导体材料，可根据客户实际需求定制。

该设备主要用于在高温（最高2600℃）、真空环境或低压气氛保护下，对功能材料进行蒸发提纯、热处理、烧结等工艺制程，该设备采用公司专有高真空系统，能防止高温工艺制程对非金属功能材料表面的影响和侵蚀，采用中频感应或电阻方式，对石墨、铱金、钼、钨等难熔坩埚进行加热，具有效率高、稳定可靠的特点。

本设备用于电子器件在真空中钎焊、退火、回火、除气工艺。

Research系列高真空中频感应炉，主要用于在高温、高真空环境或低压气氛保护下，对功能材料进行蒸发提纯、热处理、烧结、熔炼、生长等工艺制程，该设备采用公司专有高真空系统，能防止高温工艺制程对非金属功能材料表面的影响和侵蚀，采用中频感应电源加热匹配感应线圈，对石墨、铱金、钼、钨等难熔坩埚进行加热，具有效率高、稳定可靠的特点。

Research系列真空热处理炉满足客户特定需求，用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程，设备采用红外辐射加热，良好的人机界面和无油分子泵组，提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备，广泛运用于新材料研发和中小批量钎焊工艺制程。

2300℃高真空高温炉，最高可定制2800℃高温炉，主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料真空高温烧结、退火、回火工艺，也可通入保护气氛进行烧结，可用于科学实验和中小批量生产。